ASML多款光刻机不会获对华出口许可
2024-01-25

ASML在声明中强调,公司将持续致力于遵守经营所在国家/地区所有适用的法律和法规,包括出口管制法规。

涉及此次出口许可禁令的两款设备中,ASMLTWINSCANNXT:2050i是一款高生产率、双级浸没式光刻工具,专为在先进节点批量生产300mm晶圆而设计;而另一款NXT:2100i是双级浸没式光刻设备,其配备了新的投影光学调整系统,ArF光源为193nm,每小时光刻的晶圆数量达295片,主要用于光刻40nm-28nm芯片。

在这中间发生了什么,外界无从得知,直到ASML发布声明,确认提前取消部分对华光刻机订单。

据悉,DUV光刻机被用于生产28nm及更成熟制程的芯片。理论上,在多重曝光技术下最高能制造10nm芯片产品,主要供应商有荷兰ASML、日本尼康、日本佳能等厂商。

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